疫情沖擊 三星全新GAE技術(shù)3nm工藝被曝延期1年

近日，DigiTimes在一份報告中稱，三星3nm工藝量產(chǎn)時間可能已經(jīng)延期至2022年。

三星原計劃2021年初量產(chǎn)3nm，但受疫情影響，三星預(yù)期時間可能已經(jīng)延期至2022年，業(yè)內(nèi)消息人士指出，這并非工藝制造上的延遲，而是因為EUV光刻機(jī)等關(guān)鍵設(shè)備在物流上的延遲所致。

三星早在去年就宣布了3nm GAE工藝，將在3nm節(jié)點放棄FinFET晶體管，轉(zhuǎn)向GAA環(huán)繞柵極晶體管工藝，比7nm工藝，3nm GAE工藝號稱可將核心面積減少45%，功耗降低50%，性能提升35%。

而三星最大對手臺積電也因為疫情原因半導(dǎo)體裝備及安裝人員都無法按期完成，原計劃在6月份風(fēng)險試產(chǎn)的3nm FinFET工藝，試產(chǎn)時間將延期到10月份。

相應(yīng)地，臺積電南科18廠的3nm生產(chǎn)線也會順延一個季度，原本在10月份安裝設(shè)備，現(xiàn)在也要到2021年初了。

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