據(jù)外媒報道，臺積電在最近舉行的年度技術(shù)研討會上透露了大量有關(guān)該公司的信息，尤其是有關(guān)其芯片制造業(yè)務(wù)未來的信息。這些信息包括有關(guān)N5、N4、N3和N12e等先進工藝節(jié)點的新細(xì)節(jié)，這些節(jié)點將在未來幾年為許多設(shè)備提供動力。不過，臺積電也透露了自己在尖端制造實力中的地位。
根據(jù)Ian Cutress博士的報告，臺積電目前占到行業(yè)EUV（極紫外光）設(shè)備安裝數(shù)量的50%。此外，臺積電還宣稱其EUV晶圓產(chǎn)量占整個行業(yè)累計產(chǎn)量的60%。
臺積電的N7+工藝是該公司第一個使用EUV光刻技術(shù)的節(jié)點，而該公司的N5工藝將進一步利用EUV技術(shù)。此外，任何超5nm的器件都將廣泛依賴EUV光刻技術(shù)。目前，除了臺積電的N7+和N5，三星也有其7LPP工藝并有望利用EUVL。
ASML是唯一一家生產(chǎn)和銷售EUV光刻設(shè)備的公司，據(jù)Cutress估計，臺積電已經(jīng)從這家公司手中購買了30-35臺設(shè)備。據(jù)估計，ASML今年已售出約70臺機器，等到底可能會達到90臺。
最近，臺積電慶祝了10億多塊無缺陷7nm芯片的出貨。
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